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南京光寶光電專注于激光元器件產品,包括激光晶體、激光光學和激光器件。基于核心產品定位,光寶光電逐步建立了專業的基礎硬件設施和技術研發團隊。光寶光電擁有提拉法、下降法和熔鹽法晶體生長爐,用于生產各類激光晶體。建設有雙面拋光、環拋為主的平面拋光設備,用于各類激光鏡片的生產。擁有多臺離子輔助沉積(IAD)鍍膜機,用于高損傷閾值的激光鍍膜。建設了激光器件研發和生產條件(百級和千級超凈廠房),用于激光器件的研發和生產。

長晶

長晶爐

  • 提拉法晶體生長生長爐
  • 溫度梯度法晶體生長爐
  • 下降法晶體生長爐

提拉法晶體生長方法及生長爐

提拉法是目前使用最為廣泛的工業化晶體生長方法,其通過坩堝上方懸吊籽晶,從熔體中緩慢向上旋轉提拉的方式來生長晶體,晶體尺寸,生長速率精準可控,生長過程可直接觀察監測,溫場條件靈活可變,用以匹配不同種類晶體的生長需求,可以適用于生長品類不同,尺寸各異的晶體。
其優點在于:
1、適用性廣,是工業化生產使用最多的生長方式;
2、溫場條件靈活可變,適配不同種類晶體;(可根據生長晶體的不同物性來調整適當的溫場及生長工藝條件)
3、生長過程直觀可見;(可通過觀察視窗觀察到晶體生長的過程,方便過程監控及工藝調整);
4、可以生長直徑范圍在10-100mm,等徑長度超300mm的晶體;(匹配不同坩堝)
5、光寶光電科技有限公司采用提拉法先后生長過多個系列幾十種晶體,包括:稀土或過渡金屬離子摻雜YAG系列,YAP系列,硅酸鹽系列,藍寶石系列,釩酸鹽系列,鈮酸鹽系列,硼酸鹽系列等幾十種晶體。

溫度梯度法晶體生長爐

該方法是通過使用特制的發熱體,在縱向方向上形成穩定的溫度梯度,在坩堝底部內置籽晶,從而實現晶體在坩堝內部自下而上的結晶生長。該方法生長過程中,坩堝靜置不動,內部熔體自然對流,更易于形成穩定的生長界面,生長高品質晶體。
其特點是:

  • 溫場梯度穩定性好
  • 溫度控制穩定性高,控溫精度±0.1℃;
  • 晶體批量生長的穩定性好;

常用于生長鈦寶石,紅寶石,V:YAG等高摻雜濃度,摻雜離子均勻性要求高的晶體。

下降法晶體生長爐

該方法是在生長區構建一個穩定的適用于結晶生長的溫度梯度,然后將坩堝緩慢的向下運動,穿過生長區,使得坩堝內部的原料在生長區內緩慢熔化、結晶生長,該方法突破了溫梯法固定溫區對坩堝尺寸的限制,能夠生長出尺寸更大,結晶高度更長的晶體。
其特點是:

  • 穩定性好;
  • 靈活性好,可以匹配不同的坩堝,生長不同尺寸的晶體;
  • 可以生長直徑更大,高度更高的晶體坯料;
  • 可是適用于生長直徑35-200mm,高度到50-100mm尺寸的晶體;

公司采用該方法設備成功生長了氟化物系列晶體,如MgF2,LiF,BaF2,CaF2,CeF3等,并用于批量生長直徑6英寸的氟化物系列晶體。

切割

單線切割機

通過單根高速穩定往復運轉的金剛線對固定在工作區間內的晶體坯料進行精密切割;常用于大塊晶體坯料的定向切割,開料;線切割通過切割線來切割晶體,晶體受力小,切割過程輕柔,不易開裂。

  • 工作區間大:500*500*500mm
  • 切割精度高:±0.05mm;
  • 旋轉角精度:<0.1°

多線切割機

通過多根高速穩定往復運轉的金剛線對固定在工作區間內的晶體坯料進行精密切割,在其工作區間內,一次能夠同時切割幾十到幾千片同一厚度的產品,所以常被用于大批量產品的快速精密加工。

  • 工作區間大:800*500*500mm
  • 切割精度高:±0.05mm;
  • 批量能力:~3000片/day

鍍膜

南京光寶光電科技有限公司專注于強激光(超強、超快、超短)光學薄膜與強激光光學元件元件研發與生產,擁有熱蒸發、電子蒸發(e-beam)和離子輔助沉積(IAD)等4臺專業鍍制強激光光學薄膜的高性能鍍膜機,配套超聲清洗設備,通過優化薄膜的設計與蒸鍍工藝,可實現紫外266 nm-紅外5 um范圍內的激光光學薄膜鍍制,可用于諧振腔的高反射率(HR)涂層、寬帶HR和部分反射(PR)涂層、激光諧波分離器、二向色性薄膜和偏振光學薄膜。

此外,我們提供抗反射(AR)、雙帶和三帶AR激光薄膜、寬帶增透(BBAR)和金屬涂層。配套有紫外-可見-紅外分光光度計、激光損傷測試系統(1064/1535/2940nm)、激光平面干涉儀、摩擦磨損試驗機、光學顯微鏡、超清CCD工業成像儀、高低溫老化箱等設備,保證產品質量。

IAD-900-鍍膜機

  • 離子源:VEECO_Mark_Ⅲ
  • 電子槍:日本-JEOL -BS-60050EBS
  • 膜厚儀:美國-INFICON-IC6
  • 真空系統:φ550低溫泵
  • 極限真空:2*10-5 Pa
  • 最大鍍膜工件:dia 300mm
  • 鍍膜波段:UV355-IR3500nm

IAD-1300-鍍膜機

  • 離子源:中科院空間中心
  • 電子槍:南京涉谷
  • 膜厚儀:MXC-3D
  • 真空系統:TK-500 擴散泵
  • 極限真空:4*10-5 Pa
  • 最大鍍膜工件:dia 500mm
  • 鍍膜波段:IR1500-IR10600nm

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